1 主題內容與適用范圍
本標準規定了放射性核素領(lǐng)域有關(guān)的術(shù)語(yǔ)及定義。
本標準適用于放射性核素領(lǐng)域內編寫(xiě)標準和技術(shù)文件、翻譯文獻及國內國際交流等。
2 示蹤試驗和放射自顯影
2.1 放射性核素示蹤 radionuclide trace
通過(guò)測定加入某系統中的某種少量作為示蹤劑的放射性核素，從而探知被示蹤物質(zhì)的行為歸宿。
2.2 放射性示蹤劑 radioactive tracer
以具有放射性為其鑒別特性的示蹤劑。
2.3 穩定示蹤劑 stable tracer
非放射性的示蹤劑。
2.4 同位素示蹤劑 isotopic tracer
與被示蹤元素相同，而同位素組成或能態(tài)不同的示蹤劑。
2.5 非同位素示蹤劑 non-isotopic tracer
由與被示蹤元素不同的某種元素的一種或多種核素所組成的示蹤劑。
2.6 放射自顯影法 autoradiography
把含有放射性物質(zhì)的物體與感光乳膠接觸，在感光乳膠上得到該物體中的放射性物質(zhì)分布圖的方法。
2.7 生物學(xué)微觀(guān)放射自顯影法 biologlical microautoradiography
利用組織學(xué)或細胞學(xué)的實(shí)驗方法，在顯微鏡或電子顯微鏡下進(jìn)行觀(guān)察的一種放射自顯影法。
2.8 生物學(xué)宏觀(guān)放射自顯影法 biologlical macroautoradiography
用生物整體或局部和標本的切片或利用層析板、免疫沉淀板等接觸法所進(jìn)行的一種放射自顯影法。
3 人工生產(chǎn)放射性核素
3.1 靶 target
經(jīng)反應堆或加速器輻照而產(chǎn)生某種特定放射性核素的原料。廣義上也包括靶材料及相關(guān)裝置。
3.2 內靶 inner target
裝在加速器內部的靶。
3.3 外靶 outer target
裝于加速器粒子束引出管道內的靶。
3.4 薄靶 thin target
其厚度不足以使入射粒子的能量降至反應閉值以下的靶。
3.5 厚靶 thick target
其厚度可以使入射粒子的能量降至反應闡值以下的靶。
3.6 富集靶 enriched target
靶元素中特定的同位素豐度高于天然豐度的靶。
3.7 合金靶 alloy target
將靶元素或其他化合物摻以鋁、鎂等制成的靶。
3.8 靶筒 target can
用于反應堆輻照的裝靶容器。
3.9 產(chǎn)額 yield
在一定條件下（如激發(fā)粒子強度、給定時(shí)間等）核反應所生成某種核素的量與所用靶料之比。通常以 Bq/g表示。
3.10 堆照產(chǎn)額 irradiation yield in pile
在給定時(shí)間和中子注量條件下，單位質(zhì)量的靶元素在反應堆中經(jīng)輻照所生成的某種放射性核素的量。
3.11 厚靶產(chǎn)額 thick target yield
加速器帶電粒子流（束）轟擊厚靶時(shí)，給定時(shí)間、單位束流所產(chǎn)生的某種核素的量。通常以Bq?μA-1 ?h-1表示。
3.12 飽和產(chǎn)額 saturation yield
在給定中子注量條件下，某種核素通過(guò)核反應所生成特定核素的最大值。
4 放射源
4.1 輻射源 radiation source
能發(fā)射致電離輻射的裝置或物質(zhì)。
4.2 放射源 radioactive source
擬用作致電離輻射源的任何量的放射性物質(zhì)。
4.3 源窗 source window
放射源殼體上使所需射線(xiàn)較易通過(guò)的部位。
4.4 源芯 source core
放射源中含有放射性物質(zhì)的部分。
4.5 源托 source holder
放射源中活性物質(zhì)的依托支撐體。
4.6 基體 matrix
放射性物質(zhì)所依附的惰性材料。
4.7 表面發(fā)射率 surface emission rate
單位時(shí)間內從源表面或源窗射出的某種類(lèi)型和能量的粒子數。
4.8 輻射輸出量率radiation effluence rate
在一定幾何條件下，單位時(shí)間內所放射出的致電離輻射的粒子數或光子數或此二者之和。
4.9 有用束 effect beam
穿過(guò)源窗或準直裝置的射線(xiàn)束。
4.10 活性區 active zone
放射源內源芯所在的區域。
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