DB 44/2159-2019 玻璃工業(yè)大氣污染物排放標準

1 適用范圍
      本標準規定了平板玻璃、電子玻璃制造企業(yè)或生產(chǎn)設施的大氣污染物中顆粒物、二氧化硫、氮氧化物的排放限值、監測和監控要求,以及標準實(shí)施與監督等相關(guān)規定。
      本標準適用于現有平板玻璃、電子玻璃制造企業(yè)或生產(chǎn)設施的大氣污染物中顆粒物、二氧化硫、氮氧化物的排放管理,以及對建設項目的環(huán)境影響評價(jià)、環(huán)境保護設施設計、竣工環(huán)境保護驗收及其投產(chǎn)后的大氣污染物中顆粒物、二氧化硫、氮氧化物的排放管理。
      本標準中未規定的內容和要求,仍按現行GB 26453、GB 29495等相關(guān)標準執行。

2 規范性引用文件

下列文件對于本文件的應用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,僅注日期的版本適用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改單)適用于本文件。

      GB/T 15432 環(huán)境空氣 總懸浮顆粒物的測定 重量法

      GB/T 16157 固定污染源排氣中顆粒物測定與氣態(tài)污染物采樣方法

      GB 26453 平板玻璃工業(yè)大氣污染物排放標準
      GB 29495 電子玻璃工業(yè)大氣污染物排放標準

      HJ/T 42 固定污染源排氣中氮氧化物的測定 紫外分光光度法

      HJ/T 43 固定污染源排氣中氮氧化物的測定 鹽酸萘乙二胺分光光度法

      HJ/T 55 大氣污染物無(wú)組織排放監測技術(shù)導則

      HJ/T 56 固定污染源排氣中二氧化硫的測定 碘量法

      HJ 57 固定污染源廢氣 二氧化硫的測定 定電位電解法

      HJ 75 固定污染源煙氣排放連續監測技術(shù)規范(試行)

      HJ 76 固定污染源煙氣(SO₂、NO_x、顆粒物)排放連續監測系統技術(shù)要求及檢測方法

      HJ/T 397 固定源廢氣監測技術(shù)規范

      HJ 629 固定污染源廢氣 二氧化硫的測定 非分散紅外吸收法

      HJ 692 固定污染源廢氣 氮氧化物的測定 非分散紅外吸收法

      HJ 693 固定污染源廢氣 氮氧化物的測定 定電位電解法

      HJ 836 固定污染源廢氣 低濃度顆粒物的測定 重量法

      HJ 856 排污許可證申請與核發(fā)技術(shù)規范 玻璃工業(yè)-平板玻璃

      《污染源自動(dòng)監控管理辦法》(國家環(huán)境保護總局令 第 28 號)

      《環(huán)境監測管理辦法》(國家環(huán)境保護總局令 第 39 號)

3 術(shù)語(yǔ)和定義

      下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本標準。

3.1

玻璃工業(yè) glass industry

      本標準玻璃工業(yè)僅指制造平板玻璃和電子玻璃的工業(yè)。

3.2

      平板玻璃 flat glass

用浮法工藝或壓延法工藝生產(chǎn)的板狀硅酸鹽玻璃,包括電子玻璃工業(yè)太陽(yáng)能電池玻璃(薄膜太陽(yáng)能電池用基板玻璃、晶體硅太陽(yáng)能電池用封裝玻璃等)。

3.3

      平板玻璃熔窯 flat glass furnace

      熔制平板玻璃的熱工設備,由鋼結構和耐火材料砌筑而成。

3.4

      電子玻璃 electronic glass

      CRT 顯像管玻璃、平板顯示玻璃、電光源玻璃等應用電子、微電子、光電子領(lǐng)域的玻璃產(chǎn)品。

3.5

      電子玻璃熔爐 electronic glass furnace

熔制電子玻璃的熱工設備,包括各種型式的池爐和坩堝爐。按熱源來(lái)源,可分為使用天然氣、重油等燃料的熔爐(含電助熔)和全電熔爐。

3.6

      冷修 cold repair

      玻璃熔窯、熔爐?；鹄鋮s后進(jìn)行大修的過(guò)程。

3.7

      純氧燃燒 oxygen-fuel combustion

      助燃氣體含氧量大于等于 90%的燃燒方式。

3.8

      大氣污染物排放濃度 emission concentration of air pollutants

溫度 273.15 K,壓力 101.325 kPa 狀態(tài)下,排氣筒干燥排氣中大氣污染物任何 1 h 濃度平均值,單位為 mg/m3。

3.9

      排氣筒高度 stack height

      自排氣筒(或其主體建筑構造)所在的地平面至排氣筒出口計的高度,單位為 m。

3.10

      無(wú)組織排放 fugitive emission

大氣污染物不經(jīng)過(guò)排氣筒的無(wú)規則排放,主要包括作業(yè)場(chǎng)所物料堆放、開(kāi)放式輸送揚塵,以及設備、管線(xiàn)含塵氣體泄漏等。

3.11

      無(wú)組織排放監控點(diǎn)濃度限值 concentration limit at fugitive emission reference point

 溫度273.15 K,壓力101.325 kPa狀態(tài)下,監控點(diǎn)(根據HJ/T 55確定)的大氣污染物濃度在任何1 h 的平均值不得超過(guò)的值,單位為mg/m³。

3.12

      現有企業(yè) existing facility

      本標準實(shí)施之日前已建成投產(chǎn)或環(huán)境影響評價(jià)文件已通過(guò)審批的平板玻璃、電子玻璃制造企業(yè)或生產(chǎn)設施。

3.13

      新建企業(yè) new facility

      自本標準實(shí)施之日起環(huán)境影響評價(jià)文件通過(guò)審批的新建、改建和擴建玻璃工業(yè)建設項目。

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