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HJ 1045-2019 固定污染源煙氣(二氧化硫和氮氧化物)便攜式紫外吸收法測量?jì)x器技術(shù)要求及檢測方法

1 適用范圍

本標準規定了便攜式固定污染源煙氣二氧化硫和氮氧化物紫外吸收法測量?jì)x器(以下簡(jiǎn)稱(chēng)儀器)的組成結構、技術(shù)要求、性能指標和儀器檢測評價(jià)方法。

本標準適用于便攜式固定污染源煙氣二氧化硫、氮氧化物和氧氣測量?jì)x器的設計、生產(chǎn)和性能檢測。在近紫外光區有吸收的其它氣體便攜式監測儀器技術(shù)要求可參照本標準執行。

2 規范性引用文件

本標準內容引用了下列文件中的條款。凡是不注日期的引用文件,其有效版本適用于本標準。

GB/T 4208 外殼防護等級(IP 代碼)

GB/T 16157 固定污染源排氣中顆粒物測定與氣態(tài)污染物采樣方法

HJ 75 固定污染源煙氣(SO2、NOx、顆粒物)排放連續監測技術(shù)規范

HJ 76 固定污染源煙氣(SO2、NOx、顆粒物)排放連續監測系統技術(shù)要求及檢測方法 

HJ/T 397 固定源廢氣監測技術(shù)規范

術(shù)語(yǔ)和定義

下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本標準。

3.1

滿(mǎn)量程 span (full scale)

儀器根據實(shí)際應用需要設置的最大測量值。

3.2

響應時(shí)間 response time

儀器響應時(shí)間分為上升響應時(shí)間和下降響應時(shí)間。

上升響應時(shí)間指儀器零點(diǎn)讀數穩定后通入量程校準氣體,此時(shí)開(kāi)始計時(shí),到其示值達到量程校準氣體標稱(chēng)值 90%的時(shí)刻止,中間的時(shí)間間隔。

下降響應時(shí)間指儀器量程點(diǎn)讀數穩定后通入零點(diǎn)氣體,此時(shí)開(kāi)始計時(shí),到其示值達到量程校準氣體標稱(chēng)值 10%的時(shí)刻止,中間的時(shí)間間隔。

3.3

零點(diǎn)漂移 zero drift

在儀器未進(jìn)行維修、保養或調節的前提下,儀器按規定的時(shí)間運行后通入零點(diǎn)氣體,儀器的讀數與零點(diǎn)氣體初始測量值之間的偏差相對于滿(mǎn)量程的百分比。

3.4

量程漂移 span drift

在儀器未進(jìn)行維修、保養或調節的前提下,儀器按規定的時(shí)間運行后通入量程校準氣體, 儀器的讀數與量程校準氣體初始測量值之間的偏差相對于滿(mǎn)量程的百分比。

3.5

平行性 parallelism

在相同的環(huán)境條件下,相同型號和配置的儀器測量同一被測物時(shí),其測量結果的相對標準偏差。

3.6

參比方法 reference method

用于與儀器測量結果相比較的國家或行業(yè)發(fā)布的標準方法。

3.7

干煙氣濃度 dry flue gas concentration

煙氣經(jīng)預處理,露點(diǎn)溫度≤4℃時(shí),煙氣中各污染物的濃度,也稱(chēng)為干基濃度。

3.8

標準狀態(tài) standard state

溫度為 273.15 K,壓力為 101.325 kPa 時(shí)的狀態(tài)。本標準中的污染物質(zhì)量濃度均為標準狀態(tài)下的干煙氣濃度。

3.9

相對準確度 relative accuracy

參比方法與待測儀器同步測量煙氣中氣態(tài)污染物(含氧氣)濃度,取同時(shí)間區間且相同狀態(tài)的測量結果組成若干數據對,數據對之差的平均值的絕對值與置信系數的絕對值之和, 與參比方法測定數據的平均值之比。

儀器的組成和結構

4.1 儀器組成

儀器由氣態(tài)污染物 SO2(或)NOx監測單元、煙氣參數(含氧量等)監測單元和數據采集和處理單元組成(如圖 1)。當儀器測量結果為濕基濃度時(shí),應配置煙氣濕度監測單元。

4.2 儀器結構

儀器結構主要包括樣品采集和輸送單元、樣品預處理單元、分析單元、數據采集和處理單元等。依據儀器采用抽取冷干、抽取熱濕和直接測量等方式的不同,儀器由上述全部或部分結構組成(如圖 1)。

4.2.1 樣品采集和輸送單元

樣品采集和輸送單元主要包括采樣設備(采樣管)、樣品輸送管線(xiàn)、流量控制設備和采樣泵等,其具體技術(shù)要求見(jiàn) 5.4.1。

4.2.2 樣品預處理單元

樣品預處理單元主要包括樣品除濕設備等前處理設備,其具體技術(shù)要求見(jiàn) 5.4.2。

4.2.3 分析單元

      分析單元用于對采集的污染源煙氣樣品進(jìn)行測量分析。主要包括氣路、電路、電器組件、光學(xué)組件、測量池和檢測器等。

 

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