1 適用范圍
本標準規定了電子工業(yè)的水污染物排放控制要求、監測要求和監督管理要求。
本標準適用于現有的電子工業(yè)企業(yè)、生產(chǎn)設施或研制線(xiàn)的水污染物排放管理，以及電子工業(yè)建設項目的環(huán)境影響評價(jià)、環(huán)境保護設施設計、竣工環(huán)境保護驗收、排污許可證核發(fā)及其投產(chǎn)后的水污染物排放管理。
電子工業(yè)污水集中處理設施的水污染物排放管理適用于本標準。
本標準規定的水污染物排放控制要求適用于電子工業(yè)企業(yè)、電子工業(yè)污水集中處理設施直接或間接向其法定邊界外排放水污染物的行為。
2 規范性引用文件
本標準內容引用了下列文件或其中的條款。凡是不注年份的引用文件，其最新版本適用于本標準。
GB 6920 水質(zhì) pH值的測定 玻璃電極法
GB 7466 水質(zhì) 總鉻的測定 高錳酸鉀氧化-二苯碳酰二肼分光光度法
GB 7467 水質(zhì) 六價(jià)鉻的測定 二苯碳酰二肼分光光度法
GB 7470 水質(zhì) 鉛的測定 雙硫腙分光光度法
GB 7471 水質(zhì) 鎘的測定 雙硫腙分光光度法
GB 7475 水質(zhì) 銅、鋅、鉛、鎘的測定 原子吸收分光光度法
GB 7484 水質(zhì) 氟化物的測定 離子選擇電極法
GB 7485 水質(zhì) 總砷的測定 二乙基二硫代氨基甲酸銀分光光度法
GB 7494 水質(zhì) 陰離子表面活性劑的測定 亞甲藍分光光度法
GB 11893 水質(zhì) 總磷的測定 鉬酸銨分光光度法
GB 11900 水質(zhì) 痕量砷的測定 硼氫化鉀-硝酸銀分光光度法
GB 11901 水質(zhì) 懸浮物的測定 重量法
GB 11907 水質(zhì) 銀的測定 火焰原子吸收分光光度法
GB 11910 水質(zhì) 鎳的測定 丁二酮肟分光光度法
GB 11912 水質(zhì) 鎳的測定 火焰原子吸收分光光度法
GB 15562.1 環(huán)境保護圖形標志-排放口（源）
GB/T 16489 水質(zhì) 硫化物的測定 亞甲基藍分光光度法
HJ/T 60 水質(zhì) 硫化物的測定 碘量法
HJ 91.1 污水監測技術(shù)規范
HJ/T 195 水質(zhì) 氨氮的測定 氣相分子吸收光譜法
HJ/T 199 水質(zhì) 總氮的測定 氣相分子吸收光譜法
HJ/T 200 水質(zhì) 硫化物的測定 氣相分子吸收光譜法
HJ/T 373 固定污染源監測質(zhì)量保證與質(zhì)量控制技術(shù)規范（試行）
HJ/T 399 水質(zhì) 化學(xué)需氧量的測定 快速消解分光光度法
HJ 484 水質(zhì) 氰化物的測定 容量法和分光光度法
HJ 485 水質(zhì) 銅的測定 二乙基二硫代氨基甲酸鈉分光光度法
HJ 486 水質(zhì) 銅的測定 2，9-二甲基-1，10-菲啰啉分光光度法
HJ 487 水質(zhì) 氟化物的測定 茜素磺酸鋯目視比色法
HJ 488 水質(zhì) 氟化物的測定 氟試劑分光光度法
HJ 489 水質(zhì) 銀的測定 3，5-Br2-PADAP分光光度法
HJ 490 水質(zhì) 銀的測定 鎘試劑2B分光光度法
HJ 493 水質(zhì) 采樣樣品的保存和管理技術(shù)規定
HJ 494 水質(zhì) 采樣技術(shù)指導
HJ 495 水質(zhì) 采樣方案設計技術(shù)指導
HJ 501 水質(zhì) 總有機碳的測定 燃燒氧化-非分散紅外吸收法
HJ 535 水質(zhì) 氨氮的測定 納氏試劑分光光度法
HJ 536 水質(zhì) 氨氮的測定 水楊酸分光光度法
HJ 537 水質(zhì) 氨氮的測定 蒸餾-中和滴定法
HJ 636 水質(zhì) 總氮的測定 堿性過(guò)硫酸鉀消解紫外分光光度法
HJ 637 水質(zhì) 石油類(lèi)和動(dòng)植物油的測定 紅外分光光度法
HJ 659 水質(zhì) 氰化物等的測定 真空檢測管-電子比色法
HJ 665 水質(zhì) 氨氮的測定 連續流動(dòng)-水楊酸分光光度法
HJ 666 水質(zhì) 氨氮的測定 流動(dòng)注射-水楊酸分光光度法
HJ 667 水質(zhì) 總氮的測定 連續流動(dòng)-鹽酸萘乙二胺分光光度法
HJ 668 水質(zhì) 總氮的測定 流動(dòng)注射-鹽酸萘乙二胺分光光度法
HJ 670 水質(zhì) 磷酸鹽和總磷的測定 連續流動(dòng)-鉬酸銨分光光度法
HJ 671 水質(zhì) 總磷的測定 流動(dòng)注射-鉬酸銨分光光度法
HJ 694 水質(zhì) 汞、砷、硒、鉍和銻的測定 原子熒光法
HJ 700 水質(zhì) 65種元素的測定 電感耦合等離子體質(zhì)譜法
HJ 776 水質(zhì) 32種元素的測定 電感耦合等離子體發(fā)射光譜法
HJ 823 水質(zhì) 氰化物的測定 流動(dòng)注射-分光光度法
HJ 824 水質(zhì) 硫化物的測定 流動(dòng)注射-亞甲基藍分光光度法
HJ 826 水質(zhì) 陰離子表面活性劑的測定 流動(dòng)注射-亞甲基藍分光光度法
HJ 828 水質(zhì) 化學(xué)需氧量的測定 重鉻酸鹽法
HJ 908 水質(zhì) 六價(jià)鉻的測定 流動(dòng)注射-二苯碳酰二肼光度法
HJ 1069 水質(zhì) 急性毒性的測定 斑馬魚(yú)卵法
《污染源自動(dòng)監控管理辦法》（國家環(huán)境保護總局令 第28號）
《環(huán)境監測管理辦法》（國家環(huán)境保護總局令 第39號）
《企業(yè)事業(yè)單位環(huán)境信息公開(kāi)辦法》（環(huán)境保護部令 第31號）
《關(guān)于印發(fā)排放口標志牌技術(shù)規格的通知》（環(huán)辦〔2003〕95號）
3 術(shù)語(yǔ)和定義
下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本標準。
3.1 電子工業(yè) electronic industry
本標準中電子工業(yè)指電子專(zhuān)用材料、電子元件、印制電路板、半導體器件、顯示器件及光電子器件、電子終端產(chǎn)品等六類(lèi)電子產(chǎn)品制造業(yè)。
3.2 電子專(zhuān)用材料 special electronic material
具有特定要求且僅用于電子產(chǎn)品的材料，不包括生產(chǎn)電子專(zhuān)用材料的原材料的生產(chǎn)制造。根據其作用與用途，可分為電子功能材料、互聯(lián)與封裝材料、工藝與輔助材料。具體產(chǎn)品范圍見(jiàn)附錄 A。
3.3 電子元件 electronic component
電子電路中具有控制、變換和傳輸電壓或電流等獨立功能的單元。包括電阻器、電容器、電子變壓器、電感器、壓電晶體元器件、電子敏感元器件與傳感器、電接插元件、控制繼電器、微特電機與組件、電聲器件等。
3.4 印制電路板 printed circuit board（PCB）
在絕緣基材上，按預定設計形成印制元件、印制線(xiàn)路或兩者結合的導電圖形的印制電路或印制線(xiàn)路成品板。包括剛性板與撓性板，又可分為單面印制電路板、雙面印制電路板、多層印制電路板，以及剛撓結合印制電路板和高密度互連（high density interconnector，HDI）印制電路板等。
3.5 半導體器件 semiconductor device
利用半導體材料的特殊電特性制造的具有特定功能的電子器件。包括分立器件和集成電路兩大類(lèi)產(chǎn)品。
3.6 顯示器件 display device
基于電子手段呈現信息供視覺(jué)感受的器件。包括薄膜晶體管液晶顯示器件、低溫多晶硅薄膜晶體管液晶顯示器件、有機發(fā)光二極管顯示器件、真空熒光顯示器件、場(chǎng)發(fā)射顯示器件、等離子顯示器件、曲 面顯示器件以及柔性顯示器件等。
3.7 光電子器件 photoelectronic device
利用半導體光-電子（或電-光子）轉換效應制成的各種功能器件。包括發(fā)光二極管；半導體光電器件中的光電轉換器、光電探測器等；激光器件中的氣體激光器件、半導體激光器件、固體激光器件、靜電感應器件等；光通信電路及其他器件；半導體照明器件等。
3.8 電子終端產(chǎn)品 electronic terminal product
以印制電路板組裝工藝技術(shù)為基礎裝配的具有獨立應用功能的電子產(chǎn)品或組件。包括通信設備、雷達設備、廣播電視設備、電子計算機、視聽(tīng)設備等。
3.9 現有企業(yè) existing facility
本標準實(shí)施之日前已建成投產(chǎn)或環(huán)境影響評價(jià)文件已通過(guò)審批的電子工業(yè)企業(yè)、生產(chǎn)設施或研制線(xiàn)，以及電子工業(yè)污水集中處理設施。
3.10 新建企業(yè) new facility
本標準實(shí)施之日起環(huán)境影響評價(jià)文件通過(guò)審批的新建、改建和擴建電子工業(yè)或電子工業(yè)污水集中處理設施建設項目。
3.11 直接排放 direct discharge
排污單位直接向環(huán)境水體排放水污染物的行為。
3.12 間接排放 indirect discharge
排污單位向污水集中處理設施排放水污染物的行為。
3.13 污水集中處理設施 concentrated wastewater treatment facilities
為兩家及兩家以上排污單位提供污水處理服務(wù)的污水處理設施，包括各種規模和類(lèi)型的城鎮污水集中處理設施、工業(yè)集聚區（經(jīng)濟技術(shù)開(kāi)發(fā)區、高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開(kāi)發(fā)區、出口加工區等各類(lèi)工業(yè)園區）污水 集中處理設施，以及其他由兩家及兩家以上排污單位共用的污水處理設施等。
3.14 電子工業(yè)污水集中處理設施 concentrated wastewater treatment facilities for electronic industry
專(zhuān)門(mén)為兩家及兩家以上電子工業(yè)排污單位提供污水處理服務(wù)的污水集中處理設施。
3.15 排水量 effluent volume
企業(yè)或生產(chǎn)設施向企業(yè)法定邊界以外排放的廢水的量，包括與生產(chǎn)有直接或間接關(guān)系的各種外排廢水（含廠(chǎng)區生活污水、冷卻污水、廠(chǎng)區鍋爐排水等）。
3.16 單位產(chǎn)品基準排水量 benchmark effluent volume per unit product
用于核定水污染物排放濃度而規定的生產(chǎn)單位產(chǎn)品的排水量上限值。
3.17 稀釋倍數 dilution level
原水樣占稀釋后水樣總體積分數的倒數，一般用 D 來(lái)表示。例如，水樣未稀釋?zhuān)瑒t稀釋倍數 D=1； 取 250ml 水樣稀釋至 1000ml（即體積分數為 25%），則稀釋倍數 D=4。
3.18 最低無(wú)效應稀釋倍數 lowest ineffective dilution
測試中不產(chǎn)生測試效應的最低稀釋倍數，本標準指不少于90%的斑馬魚(yú)卵存活時(shí)水樣的最低稀釋倍數，用LID表示。
4 水污染物排放控制要求
4.1 新建企業(yè)自 2021 年 7 月 1 日起，現有企業(yè)自 2024 年 1 月 1 日起，執行表 1 規定的水污染物排放限值及其他污染控制要求。
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